«Невозможно создавать микросхемы без машин ASML»: голландская компания, от которой зависят Apple, Samsung и Intel
Она – монополист в области фотолитографии в глубоком ультрафиолете, от которой зависит мощность микросхем. Чем занимается ASML – в пересказе Wired.
Революционное изобретение
Производство микросхем начинается с цилиндрического слитка кремния, который нарезается на тонкие пластины. Они покрываются слоями светочувствительного материала и многократно подвергаются излучению. Части кремния, на которые не попал свет, химически вытравливаются, чтобы выявить сложные детали микросхемы. В конце кремниевые пластины разрезают на множество отдельных микросхем.
С 1960-х годов основной задачей разработчиков было уменьшение длины световой волны, поскольку именно она определяет, насколько мелкими будут детали на микросхеме. Считается, что чем больше транзисторов, тем мощнее микросхема.
Чтобы это сделать, в 1990-х годах Intel, Motorola и AMD начали развивать идею фотолитографии в глубоком ультрафиолете и разрабатывать для этого EUV-установки. В 1999 году к ним присоединилась голландская ASML — ведущий производитель литографического оборудования.
Поначалу в установках использовался свет видимой части спектра. Ему на смену пришел свет ближней УФ-области спектра, который впоследствии сделал возможным процесс фотолитография в глубоком ультрафиолете для протравления еще более мелких деталей на пластинах.
На разработку первой установки для фотолитографии в глубоком ультрафиолете потребовалось несколько десятков лет. Его массовое производство начала ASML в 2017 году.
Длина волны при EUV-литографии — 13,5 нанометров. В предыдущем методе литографии она составляла 193 нанометра, а в следующем уменьшится до 8 нанометров.