От микроэлектроники ждут серии
Минпромторг рассчитывает на переход от разработок к серийному производству оборудования и комплектующих для выпуска микроэлектроники. Производители же сетуют на малый размер рынка и нехватку качественных компонентов
К разработке литографа (степпера) — установки для печати чипов на кремниевых пластинах — Зеленоградский нанотехнологический центр (ЗНТЦ) приступил в 2022 году совместно с белорусской компанией «Планар», которая производит такие машины серийно. «Сейчас на это оборудование уже есть два коммерческих контракта. Поставка намечена на декабрь этого года», — рассказал руководитель производства изделий РЭА и сопровождения ЗНТЦ Дмитрий Калбазов на выставке ExpoElectronica-2026.
По его словам, разработанный компанией литограф на 350 нм по своим характеристикам не уступает зарубежным аналогам. «Основной конкурент на нашем рынке — Nikon NSR-2205i11D, но мы предлагаем постепенно переходить на отечественное оборудование», — заявил представитель ЗНТЦ. Весь цикл изготовления степпера — от разработки до пусконаладки — занимает примерно 18 месяцев.
Далее ЗНТЦ планирует переходить к более детальной топологии — степперу на 130 нм. Такая установка требует существенно более высокого разрешения, позволяющего разместить больше транзисторов на той же площади кристалла. Опытно-конструкторские работы по степперу на 130 нм, по оценке Дмитрия Калбазова, завершатся через полгода, в ноябре.
В новом приборе используется эксимерный фтористо-криптоновый лазер (KrF), сконструированный компанией «Лассард», резидентом ОЭЗ «Технополис». Благодаря длине волны 248 нм он относится к лазерам глубокого ультрафиолетового диапазона и используется в производстве полупроводниковых интегральных схем, промышленной микромеханике и научных исследованиях. По ключевым параметрам, таким как длина волны, мощность, частотные характеристики, он является прямым аналогом американского Cymer ELS 7600. По словам Дмитрия Калбазова, сейчас 248-нм лазер «ожидает приемосдаточных испытаний».
В планах ЗНТЦ также 90-нанометровый сканер с зеркальным объективом и эксимерный лазер на 193 нм. Кроме того, здесь разрабатываются установка контроля переносимых дефектов пластины без топологии, система формирования знаков совмещения на обратной стороне пластины, электронно-лучевой литограф и кластерная линия литографии.
Тендер Минпромторга на создание отечественной установки для печати микросхем на кремниевых пластинах в соответствии с технологическими процессами 130–65 нм зеленоградское предприятие выиграло в конце 2021 года, стоимость контракта составила 5,7 млрд рублей.
От кристаллов до пассивной электроники
Комплексную программу развития электронного машиностроения Минпромторг запустил еще в 2020 году. Поначалу она распространялась лишь на оборудование и материалы для кристального цикла — процесса изготовления интегральных микросхем, в рамках которого выполняется ряд операций с монокристаллической пластинойподложкой.
«Сейчас программа Минпромторга включает как средства, так и ресурсы для производства электроники: химические вещества, специальные материалы, измерительные приборы, оборудование для корпусирования микросхем, пассивной электроники, печатных плат и СВЧ-керамики. Всего в программе 800 мероприятий», — рассказала на ExpoElectronica-2026 заместитель директора департамента станкостроения